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Vous êtes ici : GEMACFRMoyens expérimentauxÉpitaxie et élaboration de matériauxDépôts métalliques et d'oxydes

Dépôts métalliques et d'oxydes

Le GEMaC possède deux bâtis d’évaporation par effet Joule et deux bâtis de pulvérisation cathodique.

Réacteur ultra vide



Un bâti UHV (ultra vide) permet l'élaboration de couches d'or granulaires ou continue. Il est destiné à l’élaboration de structures ou de couches minces pour l’optique (effets d’exaltations de champ).

Réacteur Edwards


Un bâti commercial Edwards auto306 possède deux sources permettant le dépôt successif de deux métaux différents (nickel, or, aluminium, argent…). Il réalise des couches minces métalliques servant de contacts électriques ou de catalyseur.

Réacteur leybold Z400


Un bâti commercial leybold Z400 polyvalent réalise des contacts électriques, des couches minces ou granulaires et des hétérostructures, pour l’optique, la magnéto-optique, l’électronique….
Nous utilisons une grande variété de cibles permettant une grande diversité de dépôts de diélectriques ou de métaux.

Réacteur de pulvérisation réactive


Enfin, un bâti, permettant de faire de la pulvérisation réactive, est destiné à l’élaboration de structures ou de couches minces pour l’optique.