Réacteur de Croissance Atomic Layer Deposition (ALD) et CVD pour les oxydes fonctionnels
(Annealsys MC-050 DLI-CVD/ALD)
Le GEMaC développe un réacteur de croissance ALD par injection liquide pour la croissance 2 pouces de couches d’oxydes fonctionnels.
Les oxydes visés actuellement sont les références :
- SrTiO3 en tant que substrat perovskite
- BiFeO3 en tant que multiferroïque
en croissance sur silicium, germanium
Spécifications techniques